Russlands 11,2 nm EUV-Lithografiesystem: Ein Konkurrent für ASML?
Russland entwickelt ein hochmodernes 11,2 nm EUV-Lithografiesystem, das in direkter Konkurrenz zu den etablierten Systemen von ASML steht. Mit einer Wellenlänge von 11,2 nm soll es die Grenzen der Halbleiterfertigung erweitern und die Effizienz steigern. Diese innovative Technologie könnte den Markt für die Herstellung von Mikrochips revolutionieren und Russland als wichtigen Spieler in der Halbleiterindustrie etablieren. Durch die Verwendung von EUV-Lithografie (Extrem-Ultraviolett-Lithografie) können feinere Strukturen und komplexere Designs realisiert werden, was zu leistungsfähigeren und effizienteren Chips führt. Dies könnte zu einem Durchbruch in der Entwicklung von künstlicher Intelligenz, IoT-Geräten und anderen Hochleistungsanwendungen führen.
